용도별 스핀코터 모델

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Edge Bead Removal
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스핀프로세싱

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큰 시료용 스핀코터는 주문 제작 가능

Natural Polypropylene Models(NPP)

용도
모델명 및 구성
Description
시료사이즈
옵션
비고
오토PR코팅

오토PR코팅:
PR의 도포량 조절 기능

-디스펜싱세트:
테플론튜브+노즐+ 콘트롤러로 구성

-재질 :NPP
-DC서보모터
-Accuracy: +-1 RPM
-무한메모리, 무한스텝
-RPM : 1-12.000 rpm
-드레인기능
-Acceleration:1-30,000rpm/sec
-외형치수:spin150
274 (w) x 250 (d) x 451 (h) mm

-외형치수:spin200
380 (w) x 307 (h) x 559 (d) mm

                       

~150mm웨이퍼

 

~200mm웨이퍼

키보드 분리 가능

Spin150 NPP
+디스펜싱세트


Spin200 NPP
+디스펜싱세트

Edge Bead Removal

Edge Bead Removal:

반도체 포토 공정중 웨이퍼 위에
PR을 분사 후 회전시켜 코팅하는
Spin Coating에서 웨이퍼 가장자리
코팅부분이 원심력과 표면 장력에 뭉치는 현상이 발생하게 되고,
이로 인해 후속 노광 작업시 패턴 불량이발생할 가능성이 높아지는데 이를 제거하는 공정을 말함.

-디스펜싱세트(EBR용):
테플론튜브+노즐+ 콘트롤러
+석백밸브+가압베슬 로 구성

재질 :NPP
DC서보모터
Accuracy: +-1 RPM
무한메모리, 무한스텝
RPM : 1-12.000 rpm
드레인기능

외형치수:spin150
274 (w) x 250 (d) x 451 (h) mm


외형치수:spin200
380 (w) x 307 (h) x 559 (d) mm

~150mm웨이퍼

 

~200mm웨이퍼

키보드 분리 가능

Spin150 NPP
+디스펜싱세트(EBR용)

Spin200 NPP
+디스펜싱세트
(EBR용)

스핀디벨로핑

스핀디벨로핑:

스핀코터를 이용한 디벨로핑 공정

-디스펜싱세트(디벨로핑용):
테플론튜브+노즐+ 콘트롤러
+석백밸브+가압베슬 로 구성

재질 :NPP
DC서보모터
Accuracy: +-1 RPM
무한메모리, 무한스텝
RPM : 1-12.000 rpm
드레인기능

외형치수:spin150
274 (w) x 250 (d) x 451 (h) mm


외형치수:spin200
380 (w) x 307 (h) x 559 (d) mm

~150mm웨이퍼

 

~200mm웨이퍼

키보드 분리 가능

Spin150 NPP +디스펜싱세트(디벨로핑용)

Spin200 NPP+디스펜싱세트
(디벨로핑용)

스핀에칭

스핀에칭:

스핀코터를 이용한 에칭공정

-디스펜싱세트(에칭용):
테플론튜브+노즐+ 콘트롤러
+석백밸브+가압베슬 로 구성

 

 

재질 :NPP
DC서보모터
Accuracy: +-1 RPM
무한메모리, 무한스텝
RPM : 1-12.000 rpm
드레인기능

외형치수:spin150
274 (w) x 250 (d) x 451 (h) mm


외형치수:spin200
380 (w) x 307 (h) x 559 (d) mm


~150mm웨이퍼

 

~200mm웨이퍼

키보드 분리 가능

Spin150 NPP+디스펜싱세트(에칭용)

Spin200 NPP+디스펜싱세트
(에칭용)

스핀린싱
/클리닝

스핀린싱/클리닝

스핀코터를 이용한 Di-Water
린싱공정

-디스펜싱세트(린싱용):
테플론튜브+노즐+ 콘트롤러
로 구성

 

재질 :NPP
DC서보모터
Accuracy: +-1 RPM
무한메모리, 무한스텝
RPM : 1-12.000 rpm
드레인기능

외형치수:spin150
274 (w) x 250 (d) x 451 (h) mm


외형치수:spin200
380 (w) x 307 (h) x 559 (d) mm

~150mm웨이퍼

 

~200mm웨이퍼

키보드 분리 가능

Spin150 NPP+디스펜싱세트(린싱용)

Spin200 NPP+디스펜싱세트
(린싱용)

스핀프로세싱

Drying
Rinse/clean
Etching
Developing

-용도별 기능 추가및 제거가능

-온도조절 가능

-세정, 현상, 린스, 드라이 가능

재질 :테플론 ,PVC
케미컬 세정 및 식각용
스핀프로세서

제품 특성:

수동형 디스펜싱기능 부터 완전 자동 디스펜싱까지 폭넓은 선택 가능한 제품군

무진동 설계 :최대 12,000RPM :Coating Thickness Uniformaty 우수

Acceleration / Deceleration :1~30,000RPM

고정밀 독일제 DC Servo모터 사용 :+-1 RPM/sec

설치면적 최소화 설계

용도에따른 주문제작 가능

고내화학성 하우징및 간편한 클리닝 가능

글로브 박스내에서도 작업 가능한 편리하고 큼직한 키보드 스타일

고신뢰성 반복작업 가능

복작한 작업 가능한 하이스텝 -메모리 기능,99Step-99memory:MCD 200~

Programmable Relays, allowing process controlled interfacing with external hardware

 
 
 

        Polos Spincoater 작동모습

  • Determination of spincoating uniformity and wafer to wafer uniformity of the APT Spincoating system using AZ5214E resist.
    ( By: T. Zijlstra TUDelft B. de Lange TUDelft B. van Weelde SPS )

    - APT Spincoater의 특징
    Wafer uniformity의 향상을 위한 2 Point

    1. acceleration during ramp up: Changing the acceleration resulted in more smooth resist films,
    i.e. “comet” tails disappeared when the acceleration during ramp up was increased to 1000 rpm per second, with a final spinning speed of 5000 rpm.

    2. Airflow in the spinbowl: Reducing the the airflow to zero resulted in circular uniformal resist pattern on the wafer


 

납품현황:ETRI,동우화인캠,외 다수 기업 및 연구소

 

재성ITS co.
Tel:031-479-4211/2
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