Spin Process Station:스핀프로세스 스테이션 (에칭, 디벨로핑,클리닝&드라잉) Spin Cleaning & Spin Drying

JS-12EDR : 스핀 프로세서 ( 세정 , 식각용 ,클리닝, 디벨로핑 용)

- 용도 : 불산 혼합산 에칭, 세정용 , 디벨로핑, 클리닝, 드라잉

1.Full 플래스틱 하우징

2.Single wafer process, 6~12inch ,조각 웨이퍼

3.Manual loading and unloading system

4.Acid-resistant materials and structure

5.Time : 1-999 sec/step

6.Speed :1-2.000 rpm

7.Vacuum Chuck,or mechanical Chuck or Non contact wafer chuck

8.Etch uniformity: + - 3%

9.2-6 chemicals(전처리용 ,본처리용 에천트..),IPA, DIW rinse and N2 dry

Substrate Front & Back Side In Situ Di Water Rinse

10.Temperature control for chemicals

11.Chemical flow control

12.Spray swing arm movement(Option)

스핀클리닝, 스핀 드라잉,스핀에칭, 스핀 디스펜싱

이지 LCD control:

-시간 :0-999sec/step

-RPM:0-2000

-Valve선택

 


1900Wx1200Dx1900H mm

 

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스핀에처, 스핀드라이어, 스핀디벨로퍼, 스핀클리닝,

  • Drying
  • Rinse/clean
  • Etching
  • Manual coating
  • Automatic coating
  • Developing

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