제품 설명

-마스크리스 리소그래피는 느리고 비싼 포토마스크를 사용하지 않고도
    나노패턴을 만드는 편리한 방법을 제공합니다.
    이는 특히 연구 및 신속한 프로토타입 제작 목적에 유용합니다.

-POLOS Beam Laser Writer 은 성능에 영향을 미치지 않으면서
     이러한 이점을 데스크톱에 제공하는 합리적인 소형 솔루션입니다.

-POLOS Beam Laser Writer 는 UV 레이저 빔을 사용하여 포토레지스트의
     모든 패턴을 노광할 수 있는 정밀한 지점을 만드는
     퀵스왑 가능한 리소그래피 시스템 입니다.

-대형 웨이퍼를 노광하기 위해 정밀한 스테퍼가 웨이퍼를 이동하고
      여러 노광을 함께 스티칭합니다.

-POLOS Beam Laser Writer 은 405nm 엔진과 20배 대물렌즈를
      장착할 경우 4인치 웨이퍼에서 (CD) 0.8μm보다 작은 피처를
      생성할 수 있습니다.

Compact : 데스크톱 컴퓨터보다 작은, 모든 기능을 갖춘
      마스크리스 리소그래피입니다.

Powerful: 2초 이내에 쓰기 필드를 노출하면서 서브마이크론
       분해능을 제공합니다.

Ultrafast Autofocus :피에조 액추에이터는 폐쇄형 루프 초점 광학 장치와
       결합하면 1초 이내에 초점에 도달합니다.

편리한 다층 반자동 정렬을 통해 몇 분 안에 다층 정렬을 완료할 수 있습니다.

포함된 소프트웨어는 모든 패터닝 작업을 빠르게 처리합니다.

로드하고, 정렬하고, 노출하기만 하면 됩니다.

탐색은 CNC 시스템과 비슷합니다.

Key features

-라이팅 해상도 < 1 μm

-Adjustable writing field and resolution with exchangeable objectives

Compatible with CAD files or bitmap images

Compatible with g-line photoresists

Compatible with a wide range of substrates (silicon, glass, metal, plastic, ... )

Compatible with any sample size up to 4” wafer Camera feedback for alignment steps

Key benefits

Time and money saving due to the absence of a hard-mask

lntuitive alignment method with direct overlay of the design on the sample

Table-top with very small foot print

Technology well suited for microelectronics, 2D-materials, microfluidics, optoelectronics, opties or any other 2D microfabrication application

POLOS® BEAM Mk2
--MASKLESS LITHOGRAPHY SYSTEM

Maskless lithography enables nanopatterning without photomasks.

- 0.1 um repeatability and 4" stage travel
- 0.8 um resolution

Features:
- 20x/0.75 NA Nikon UV-corrected objectives
- Epi-illumination for sample viewing and multilayer alignment
- Full HD 120 FPS CMOS camera for real-time and lag-free observation
- Closed-loop autofocus built into optics
- Piezo-actuated z-axis for fast autofocus
- Single USB 3.1 interface for system control

Specifications:
- Minimum Linewidth: 0.8 um
- Stage Bidirectional Repeatability: 0.1 um
- Exposure wavelength: 405 nm
- Maximum Writefield: 400 µm x 400 µm
- Writing Area: 106 * 106 mm ( 4" compatible)
- BEAM Xplorer software included
- High Performance Laptop included.
Weight Lighter than 20 kg
System size 330 x 310 x 340 mm