AT650P는 비용 효율적인 데스크톱 플라즈마 ALD ALD 시스템입니다.
써멀시스템 비용으로 구입 가능한 플라즈마 ALD시스템
이제 새로운 고급 중공 음극 소스 사용
특징: 낮은 산소 오염(질화물 등), 높은 전자 밀도, 낮은 플라즈마 손상
작은 설치 공간(38.1cm, 가로 15인치) 데스크탑 플라즈마 ALD
? 직경 6인치 이하의 샘플을 수용합니다.
맞춤형 척(옵션).
185°C까지 3개의 유기금속 소스 전구체(표준 조건에서 1개).
최대 4개의 산화제/환원제 소스(MFC 제어).
통합된 불활성 가스 퍼지를 위한 초고속 MFC를 갖춘 고온 호환 고속 펄스 ALD 밸브
온도 범위: 400°C
정적 처리 모드로 높은 노출 가능
AT650P
AT650p-precursor-측면
작은 설치 공간(38.1cm, 가로 15인치) 데스크탑 플라즈마 ALD
고효율, 원격 300와트 중공 음극 소스
특징: 낮은 산소 오염, 높은 전자 밀도, 낮은 플라즈마 손상
통합 매칭 네트워크
맞춤형 척 옵션을 사용하여 직경 6인치의 샘플을 수용합니다.
40 - 400 °C의 가열된 샘플 홀더가 있는 따뜻한 벽으로 둘러싸인 알루미늄 챔버
3개의 유기금속 전구체를 185°C까지 가열할 수 있으며, 추가로 1개를 표준 조건에서 가열할 수 있습니다.
각각 초고속 MFC를 갖춘 최대 4개의 산화제/환원제 소스(2개 표준)
초고속 MFC 및 통합 불활성 가스 퍼지 기능을 갖춘 고온 호환 고속 펄스 ALD 밸브
정적 처리 모드로 높은 노출 가능
작은 설치 공간(15″ x 15″), 벤치탑 설치 및 완전한 클린룸 호환
시스템 유지 관리가 간단하고 유틸리티 비용이 저렴합니다.
간소화된 챔버 디자인과 작은 챔버 부피
빠른 사이클링 능력과 높은 노출, 깊은 침투 처리 가능
HW, SW 풀 연동으로 다중 사용자 환경에서도 안전한 운영이 가능합니다.
QCM(quartz crystal microbalance)
추가 카운터 반응물 라인(MFC 제어) ? 최대 2개 추가
옵션으로 제공되는 4차 가열 전구체(185°C), 옵션으로 제공되는 압력 부스트 기술 모두 사용 가능
외부 제어 PC/소프트웨어 링크(원격 프로그래밍 및 실행 가능)
표준 압력 체제보다 높음
맞춤형 시스템
N 2 퍼지 가스는 차단 밸브(10 ? 30 psi로 조절, 금속 밀봉)를 사용하여 >99.9995%여야 합니다.
입력 라인은 1/4 암나사 VCR 압축 피팅입니다.
1/4″ 금속 라인을 통해 > 99.9995% 질소(UHP) 퍼지 가스를 뒷면의 1/4″ 압축 피팅에 연결합니다.
1/4인치 폴리에틸렌 튜브나 금속 라인을 통해 90-110psi CDA(깨끗한 건조 공기)를 CDA(Clean Dry Air)라고 표시된 다른 1/4인치 압축 피팅에 연결합니다.
최소 19.5cfm 습식 펌프(**PTFE 진공 유체(Fomblin과 같은) 필요 )(건식 펌프는 선택 사항)
NW40(1.5″) 연결 및 배기 라인(5cfm 초과)
1m 이상은 NW50 배기 라인을 사용해야 합니다.
암형 VCR 엘보우를 통해 전구체를 부착합니다(항상 새 개스킷을 사용하십시오).
팔꿈치: 1/4″ 개스킷 먼저(장갑 착용 시)
전구체 부착에 대해서는 " AT650P 도구 및 소프트웨어 작동"을 참조하십시오.
자세한 지침은 프레젠테이션 및 비디오 지침인 " AT650P 설치 및 시작 " 을 참조하십시오.
10인치 터치 스크린
패널을 갖춘 HMI(Human Machine Interface) PLC 시스템
표준 ALD 사이클 은 물론 나노라미네이트, 도핑된 박막 및 삼원계 박막의 증착에 적합한 고급 제어
고품질의 테스트된 프로세스를 위한 레시피 데이터베이스
맞춤 레시피 입력 화면
공정상태 실시간 표시
개별적으로 프로그래밍 가능한 가열원 온도
3원 화합물 및 나노 적층체를 위한 내장형 펄스 시퀀스
간단한 질문으로 빠르게 실행하여 사용자를 유도합니다.
입력 하위 주기 및 전체 주기
