AT410은 시장에서 가장 비용 효율적인 써멀 ALD 시스템입니다.
작은 공간을 차지하는 데스크탑 시스템
반도체 등급 금속 밀봉 라인 및 고온 호환 고속 펄스 ALD 밸브.
통합된 불활성 가스 퍼지를 위한 초고속 MFC.
더 작은 크기나 다른 모양(높이 11mm)에 맞게 맞춤 설정할 수 있는 4인치 원형 척.
3개의 유기금속 전구체와 2개(최대 3개)의 counter-reactant.
전체적으로 가열되는 라인(from precusor to chamber).
알루미늄(반도체 등급) 챔버 ? 최대 범위 320°C
7인치 터치스크린 PLC 컨트롤러(PC 불필요)
반도체 등급 금속 밀봉 라인 및 고온 호환 고속 펄스 ALD 밸브.
통합된 불활성 가스 퍼지를 위한 초고속 MFC.
더 작은 크기나 다른 모양(높이 11mm)에 맞게 맞춤 설정할 수 있는 4인치 원형 척.
3개의 유기금속 전구체와 2개(최대 3개)의 counter-reactant.
전체적으로 가열되는 라인(from precusor to chamber).
알루미늄(반도체 등급) 챔버 ? 최대 범위 320°C
7인치 터치스크린 PLC 컨트롤러(PC 불필요)
AT410M
AT410은 시장에서 가장 비용 효율적인 써멀 ALD 시스템입니다.
AT410M-precursor-측면
AT410M-후면
AT410M-후면
장비 특징
작은 공간을 차지하는 데스크탑 시스템(< 0.15m3 | 2.5평방피트)
통합된 불활성 가스 퍼지를 위한 초고속 MFC를 갖춘 고온 호환 고속 펄스 ALD 밸브입니다.
더 작은 크기나 다른 모양(높이 11mm)에 맞게 맞춤 설정할 수 있는 4인치 원형 척.
3개의 유기금속 전구체와 2개(최대 3개)의 반대 반응물.
전체에 걸쳐 가열된 라인(전구체부터 챔버까지).
높은 노출(트렌치 및 다공성 기판의 경우) 및 정적 처리 모드
모든 알루미늄(반도체 등급) 챔버 ? 최대 범위 320°C
7인치 터치스크린 PLC 컨트롤러(PC 불필요)
평생 소프트웨어 업그레이드 포함
1년 보증(부품 포함)
통합된 불활성 가스 퍼지를 위한 초고속 MFC를 갖춘 고온 호환 고속 펄스 ALD 밸브입니다.
더 작은 크기나 다른 모양(높이 11mm)에 맞게 맞춤 설정할 수 있는 4인치 원형 척.
3개의 유기금속 전구체와 2개(최대 3개)의 반대 반응물.
전체에 걸쳐 가열된 라인(전구체부터 챔버까지).
높은 노출(트렌치 및 다공성 기판의 경우) 및 정적 처리 모드
모든 알루미늄(반도체 등급) 챔버 ? 최대 범위 320°C
7인치 터치스크린 PLC 컨트롤러(PC 불필요)
평생 소프트웨어 업그레이드 포함
1년 보증(부품 포함)
장비 스펙
실온 ~ 320°C ± 1°C의 챔버 온도; RT ~ 180°C ± 2°C의 전구체 온도(가열 재킷 포함)
시장에서 가장 작은 설치 공간(2.5평방피트), 벤치탑 설치 및 클린룸 호환
시장에서 시스템 유지 관리가 간단하고 유틸리티 및 전구체
사용량이 가장 낮습니다.
간소화된 챔버 디자인과 작은 챔버 부피
빠른 사이클링 성능(최대 1.2nm/min Al 2 O 3 ) 및 높은 노출,
깊은 침투 처리 가능
다중 사용자 환경에서도 안전한 운영을 위한 Full HW, SW 연동
시장에서 가장 작은 설치 공간(2.5평방피트), 벤치탑 설치 및 클린룸 호환
시장에서 시스템 유지 관리가 간단하고 유틸리티 및 전구체
사용량이 가장 낮습니다.
간소화된 챔버 디자인과 작은 챔버 부피
빠른 사이클링 성능(최대 1.2nm/min Al 2 O 3 ) 및 높은 노출,
깊은 침투 처리 가능
다중 사용자 환경에서도 안전한 운영을 위한 Full HW, SW 연동
장비 옵션
맞춤형 척/가압판(사각형, 작은 조각용 홈, 분말)
맞춤형 챔버(두꺼운 기판)
ATOzone ? 오존 발생기(일부 필름에 필요: Pt, Ir, SiO 2 , MoO 2 , 60°C 미만의 고품질 Al 2 O 3 , 고품질 HfO 2 )
옵션 - 주변 오존 가스를 실시간으로 감지하는 오존 안전 모니터
QCM(Quartz Crystal Microbalance)
글로브박스 통합(일반적으로 기판을 습기, 황화물 등에 노출시키지 않기 위해 필요)
외부 제어 ? PC/소프트웨어 링크(원격 프로그래밍 및 실행 가능)
통풍 가능한 전구체 캐비닛
예비 챔버
저증기압 전구체용 IGPA(불활성 가스 압력 보조:inert gas pressure assist)
전구체에서의 더 높은 온도(최대 180°C)
세 번째 반대반응물(Third counter reactant)
세 번째 역반응물(Third counter reactant)의 소프트웨어 제어
맞춤형 챔버(두꺼운 기판)
ATOzone ? 오존 발생기(일부 필름에 필요: Pt, Ir, SiO 2 , MoO 2 , 60°C 미만의 고품질 Al 2 O 3 , 고품질 HfO 2 )
옵션 - 주변 오존 가스를 실시간으로 감지하는 오존 안전 모니터
QCM(Quartz Crystal Microbalance)
글로브박스 통합(일반적으로 기판을 습기, 황화물 등에 노출시키지 않기 위해 필요)
외부 제어 ? PC/소프트웨어 링크(원격 프로그래밍 및 실행 가능)
통풍 가능한 전구체 캐비닛
예비 챔버
저증기압 전구체용 IGPA(불활성 가스 압력 보조:inert gas pressure assist)
전구체에서의 더 높은 온도(최대 180°C)
세 번째 반대반응물(Third counter reactant)
세 번째 역반응물(Third counter reactant)의 소프트웨어 제어
설치시 참조사항
자세한 지침은 프레젠테이션 및 비디오 지침을 참조하십시오. " AT410/610 설치 및 시작 "
N 2 퍼지 가스는 차단 밸브(10 ? 30 psi로 조절, 금속 밀봉)를 사용하여 >99.9995%여야 합니다.
입력 라인은 1/4 암나사 VCR 압축 피팅입니다.
1/4″ 금속 라인을 통해 > 99.9995% 질소(UHP) 퍼지 가스를 뒷면의 1/4″ 압축 피팅에 연결합니다.
1/4인치 폴리에틸렌 튜브나 금속 라인을 통해 90-110psi CDA(깨끗한 건조 공기)를 CDA(Clean Dry Air)라고 표시된 다른 1/4인치 압축 피팅에 연결합니다.
최소 12cfm 습식 펌프(**PTFE 진공 유체(예: Fomblin) 필요 )(610 및 810은 일반적으로 19.5cfm 이상의 더 큰 펌프를 사용함)
NW25(KF25)(1″) 연결 및 배기 라인(5cfm 초과)
1m 이상은 NW40(1.5″) 배기 라인을 사용해야 합니다.
암형 VCR 엘보우를 통해 전구체를 부착합니다
(항상 새 개스킷을 사용하십시오).
엘보우: 1/4″ 개스킷 먼저(장갑 착용 시)
전구체 부착에 대해서는 AT410/AT610 도구 및 소프트웨어 작동을 참조하십시오 .
N 2 퍼지 가스는 차단 밸브(10 ? 30 psi로 조절, 금속 밀봉)를 사용하여 >99.9995%여야 합니다.
입력 라인은 1/4 암나사 VCR 압축 피팅입니다.
1/4″ 금속 라인을 통해 > 99.9995% 질소(UHP) 퍼지 가스를 뒷면의 1/4″ 압축 피팅에 연결합니다.
1/4인치 폴리에틸렌 튜브나 금속 라인을 통해 90-110psi CDA(깨끗한 건조 공기)를 CDA(Clean Dry Air)라고 표시된 다른 1/4인치 압축 피팅에 연결합니다.
최소 12cfm 습식 펌프(**PTFE 진공 유체(예: Fomblin) 필요 )(610 및 810은 일반적으로 19.5cfm 이상의 더 큰 펌프를 사용함)
NW25(KF25)(1″) 연결 및 배기 라인(5cfm 초과)
1m 이상은 NW40(1.5″) 배기 라인을 사용해야 합니다.
암형 VCR 엘보우를 통해 전구체를 부착합니다
(항상 새 개스킷을 사용하십시오).
엘보우: 1/4″ 개스킷 먼저(장갑 착용 시)
전구체 부착에 대해서는 AT410/AT610 도구 및 소프트웨어 작동을 참조하십시오 .
소프트웨어
자세한 지침은 프레젠테이션 및 비디오 지침인 " AT410_610 설치 및 시작 " 을 참조하십시오.
7인치 터치 스크린
패널을 갖춘 HMI(Human Machine Interface) PLC 시스템
표준 ALD 사이클 은 물론 나노라미네이트, 도핑된 박막 및 삼원계 박막의 증착에 적합한 고급 제어
고품질의 테스트된 프로세스를 위한 레시피 데이터베이스
맞춤 레시피 입력 화면
공정상태 실시간 표시
개별적으로 프로그래밍 가능한 가열원 온도
3원 화합물 및 나노 적층체를 위한 내장형 펄스 시퀀스
간단한 질문으로 빠르게 실행하여 사용자를 유도합니다.
입력 하위 주기 및 전체 주기
